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紫外光刻機(jī)
紫外光刻機(jī)
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該光刻機(jī)可廣泛用于MEMS和光電子，例如LED生產(chǎn)。它經(jīng)過特殊設(shè)計(jì)，方便處理各種非標(biāo)準(zhǔn)基片、例如混合、高頻元件和易碎的III-V族材料，包括砷化鎵和磷化銦。而且該設(shè)備可通過選配升級套件，實(shí)現(xiàn)紫外納米壓印光刻。它具有以下亮點(diǎn)：高分辨率掩模對準(zhǔn)光刻，特征尺寸優(yōu)于0.5微米、裝配SUSS的單視場顯微鏡或分視場顯微鏡，實(shí)現(xiàn)快速準(zhǔn)確對準(zhǔn)、針對厚膠工藝進(jìn)行優(yōu)化的高分辨光學(xué)系統(tǒng)、可選配通用光學(xué)器件，在不同波長間進(jìn)行快速切換等

美光科技將引入極紫外光刻機(jī)，2024 年部署到部分工藝節(jié)點(diǎn)
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美光科技將引入極紫外光刻機(jī)，并計(jì)劃在2024年部署到部分工藝節(jié)點(diǎn)的消息，是基于其長期技術(shù)發(fā)展規(guī)劃和市場需求做出的重要決策。以下是對此消息的詳細(xì)解讀：一、背景與計(jì)劃技術(shù)背景：極紫外光刻機(jī)（EUV光刻機(jī)）是半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的一項(xiàng)先進(jìn)技術(shù)，它以波長為10~14納米的極紫外光作為光源，可用于制造14納米及以下的先進(jìn)制程芯片。這項(xiàng)技術(shù)對于提高芯片的性......
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2021-07-05
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三星電子已決定在得克薩斯州奧斯汀建設(shè) EUV 晶圓廠
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三星電子確實(shí)已決定在得克薩斯州奧斯汀建設(shè)EUV晶圓廠，以下是關(guān)于該項(xiàng)目的詳細(xì)分析：一、項(xiàng)目背景與決策三星電子為了擴(kuò)大其半導(dǎo)體生產(chǎn)能力和滿足市場對先進(jìn)制程技術(shù)的需求，決定在美國得克薩斯州奧斯汀建設(shè)一座采用極紫外光（EUV）技術(shù)的晶圓廠。這一決策是基于三星電子對全球半導(dǎo)體市場趨勢的深入分析和對未來需求的預(yù)測。二、項(xiàng)目概況投資規(guī)模：該項(xiàng)目預(yù)計(jì)投......
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2021-05-20
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南亞科技宣布新建一座12英寸晶圓廠 投資107億美元
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南亞科技宣布新建一座12英寸晶圓廠，并投資107億美元（或3000億新臺幣，兩者匯率轉(zhuǎn)換后金額相近），以下是關(guān)于該項(xiàng)目的詳細(xì)情況：一、投資規(guī)模與資金分配南亞科技計(jì)劃投資3000億新臺幣（約107億美元）用于新建12英寸晶圓廠。該投資將分三階段進(jìn)行，時(shí)間跨度長達(dá)7年。二、建設(shè)進(jìn)度與規(guī)劃新晶圓廠預(yù)計(jì)將在某一年年底動工（具體年份可能因消息發(fā)布時(shí)......
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2021-04-22
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ASML：摩爾定律沒有減速或失效，還將持續(xù)10年或更久
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ASML（Advanced Semiconductor Materials Lithography）對于摩爾定律的看法是積極的，其認(rèn)為摩爾定律沒有減速或失效，并且還將持續(xù)10年或更久。以下是對ASML這一觀點(diǎn)的詳細(xì)解釋：一、摩爾定律的定義與重要性摩爾定律是英特爾創(chuàng)始人戈登·摩爾提出的經(jīng)驗(yàn)法則，它指出集成電路上可以容納的晶體管數(shù)目在大約每經(jīng)......
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