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雙反應臺電感耦合
雙反應臺電感耦合
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（全球TMT2021年3月16日訊）中微半導體設備（上海）股份有限公司（簡稱“中微公司”）在SEMICON China 2021期間正式發布了新一代電感耦合等離子體（ICP）刻蝕設備Primo Twin-Star?，用于IC器件前道和后道制程導電/電介質膜的刻蝕應用。

中微公司發布雙反應臺電感耦合等離子體刻蝕設備Primo Twin－Star（R）
中微公司發布雙反應臺電感耦合等離子體刻蝕設備Primo Twin－Star（R）...
中微公司發布的雙反應臺電感耦合等離子體刻蝕設備Primo Twin-Star（R）是一款先進的半導體加工設備，以下是對該設備的詳細介紹：一、設備概述Primo Twin-Star（R）是中微公司基于其成熟的單臺反應器電感耦合等離子體（ICP）刻蝕技術和雙臺反應器的Primo平臺而開發的新一代刻蝕設備。該設備主要用于IC器件前道和后道制程導......
雙反應臺... 雙臺反應... 圖像傳感...
2021-03-17
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