三星靠不住,英偉達GPU將轉單臺積電


原標題:三星靠不住,英偉達GPU將轉單臺積電
一、事件背景:三星代工的“掉鏈子”與英偉達的抉擇
三星代工的困境
三星4nm工藝的GPU功耗比臺積電版本高15%-20%,例如三星代工的Exynos 2200(集成AMD GPU)因發熱問題被迫取消多國發售;
英偉達RTX 4080在三星工藝下需搭配雙風扇散熱器,而臺積電版本可優化為單風扇設計。
三星4nm/5nm工藝的良率長期低于臺積電(據行業消息,三星4nm良率僅35%-40%,臺積電達60%-70%),導致英偉達RTX 40系列GPU產能不足;
例如,RTX 4090因三星代工的AD102核心良率低,初期缺貨嚴重,價格被黃牛炒高200%。
良率問題:
性能與功耗爭議:
英偉達的“轉單”動機
臺積電3nm工藝(N3B)較三星3nm(GAE)性能提升11%、功耗降低27%,英偉達下一代Blackwell架構GPU需依賴臺積電先進制程。
2023年AI算力需求爆發,英偉達H100 GPU訂單激增300%,需依賴臺積電CoWoS先進封裝產能(臺積電獨占全球90%份額);
三星因2.5D封裝良率低(僅50%),無法滿足英偉達對HBM3內存與GPU互連的高密度封裝需求。
保障供應穩定性:
技術代際差距:
二、產業影響:臺積電、三星與英偉達的“三角博弈”
對臺積電的影響
英偉達占臺積電2024年HPC(高性能計算)收入比重或超25%,臺積電可能上調3nm代工價格(漲幅約5%-10%)。
英偉達轉單將使臺積電2024年先進制程產能利用率從85%提升至95%,但可能擠壓蘋果、AMD等客戶訂單;
臺積電計劃2024年將CoWoS月產能從3萬片提升至4.5萬片,但仍難以滿足英偉達需求。
訂單激增與產能壓力:
議價權提升:
對三星的沖擊
三星需在2024年量產第二代3nm(GAP)工藝,但良率仍需突破60%才能吸引大客戶回流。
若失去英偉達GPU訂單,三星2024年晶圓代工收入或減少15億美元,市場份額從18%跌至15%;
三星2023年Q3晶圓代工業務運營利潤率僅1%,遠低于臺積電的42%。
市場份額流失:
技術追趕壓力:
對英偉達的利弊
過度依賴臺積電可能導致供應鏈單一化,若臺積電發生自然災害或地緣政治風險(如美國出口管制),英偉達將陷入被動。
保障GPU供應,滿足微軟、Meta等云廠商AI算力需求,2024年數據中心業務收入或突破400億美元;
提升產品競爭力,例如臺積電代工的H200 GPU較三星版本性能提升8%。
短期利好:
長期風險:
三、技術對比:臺積電與三星的制程代際差距
指標 | 臺積電N3B(3nm) | 三星GAE(3nm) | 差距 |
---|---|---|---|
晶體管密度 | 2.5億/mm2 | 1.7億/mm2 | 臺積電領先47% |
性能提升 | 較5nm提升15%-20% | 較5nm提升11% | 臺積電領先5%-9% |
功耗降低 | 較5nm降低30%-35% | 較5nm降低27% | 臺積電領先3%-8% |
良率 | 70%-75%(2024年目標) | 50%-55%(2024年目標) | 臺積電領先20%-25% |
客戶采用率 | 蘋果、英偉達、AMD | 高通、谷歌 | 臺積電覆蓋頭部客戶 |
分析:
臺積電在3nm工藝上全面領先三星,尤其在良率與HPC(高性能計算)領域優勢顯著;
三星需解決良率與功耗問題,否則可能失去高通、谷歌等關鍵客戶,陷入“技術落后-訂單流失-研發投入不足”的惡性循環。
四、行業趨勢:先進制程競爭與供應鏈多元化
臺積電的壟斷地位加劇
2024年臺積電將占據全球3nm晶圓代工市場95%份額,英特爾20A工藝量產推遲至2025年,短期內無競爭對手;
英偉達、AMD、蘋果等客戶為保障供應,被迫接受臺積電漲價(3nm代工費較5nm上漲25%)。
供應鏈多元化嘗試
計劃2025年量產2nm GAA工藝,良率目標70%;
向美國政府申請《芯片法案》補貼,擴建得州泰勒工廠。
與英特爾IFS合作開發18A工藝GPU(2026年量產),降低對臺積電依賴;
投資Rapidus(日本2nm晶圓廠),布局下一代制程。
英偉達的“備胎計劃”:
三星的“絕地反擊”:
地緣政治風險
美國《芯片法案》要求受補貼企業10年內不得在中國擴產先進制程,臺積電南京廠、三星西安廠面臨技術升級限制;
英偉達為規避風險,可能將中低端GPU(如RTX 30系列)代工轉移至中芯國際(14nm工藝)。
五、結論:英偉達轉單臺積電的必然性與產業影響
短期結果
英偉達GPU供應穩定性提升,2024年數據中心業務毛利率或達70%(較2023年提升5個百分點);
臺積電3nm產能吃緊,可能優先保障英偉達、蘋果訂單,AMD MI300X GPU或面臨交付延遲。
長期挑戰
臺積電一家獨大風險:若美國、歐盟等政府干預,可能要求臺積電分享技術或強制轉移產能;
三星與英特爾的追趕:三星2nm、英特爾20A工藝若在2025年后量產,可能打破臺積電壟斷。
對行業參與者的建議
在美國亞利桑那州、日本熊本縣新建工廠,分散地緣政治風險;
投資光刻機、EUV掩膜等上游設備,鞏固技術壁壘。
放棄與臺積電正面競爭,聚焦存儲芯片(HBM3、CXL內存)與先進封裝(2.5D/3D I-Cube)差異化優勢;
聯合高通、谷歌開發定制化芯片(如谷歌Tensor G3),通過軟硬協同提升競爭力。
加速與英特爾、Rapidus合作,降低對臺積電依賴;
推動Chiplet(小芯片)技術,將不同工藝節點芯片封裝在一起,分散供應鏈風險。
英偉達:
三星:
臺積電:
最終判斷:英偉達轉單臺積電是技術代際差距與商業利益驅動下的必然選擇,短期內將強化臺積電在先進制程的壟斷地位,但長期可能引發供應鏈安全與反壟斷審查。三星需在技術追趕與差異化競爭中尋找生存空間,而英偉達則需平衡“技術領先”與“供應鏈韌性”的矛盾。
責任編輯:David
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