電源內(nèi)部損耗為什么會(huì)存在?


原標(biāo)題:電源內(nèi)部損耗為什么會(huì)存在?
電源內(nèi)部損耗是電源系統(tǒng)設(shè)計(jì)中的核心問(wèn)題之一,其存在源于電能轉(zhuǎn)換過(guò)程中的物理限制和電路特性。以下從損耗來(lái)源、分類(lèi)、影響因素及優(yōu)化方法等方面進(jìn)行系統(tǒng)分析,并結(jié)合實(shí)際案例和類(lèi)比說(shuō)明。
1. 電源內(nèi)部損耗的主要來(lái)源
電源內(nèi)部損耗的本質(zhì)是輸入電能未能完全轉(zhuǎn)化為輸出電能,而是以熱能、電磁輻射等形式耗散。具體來(lái)源包括:
1.1 導(dǎo)體與半導(dǎo)體電阻損耗
原理:電流通過(guò)導(dǎo)體(如變壓器繞組、PCB走線)或半導(dǎo)體器件(如MOSFET、二極管)時(shí),因電阻產(chǎn)生焦耳熱( )。
類(lèi)比:類(lèi)似水管中的水流因摩擦產(chǎn)生阻力,導(dǎo)致壓力損失(電能轉(zhuǎn)化為熱能)。
示例:
變壓器銅損:繞組電阻(如0.1Ω)在10A電流下產(chǎn)生
損耗。MOSFET導(dǎo)通損耗:導(dǎo)通電阻(如10mΩ)在20A電流下產(chǎn)生
損耗。
1.2 開(kāi)關(guān)損耗
原理:開(kāi)關(guān)器件(如IGBT、MOSFET)在開(kāi)通和關(guān)斷過(guò)程中,電壓與電流存在重疊,導(dǎo)致瞬態(tài)功率損耗。
類(lèi)比:類(lèi)似汽車(chē)啟動(dòng)時(shí)發(fā)動(dòng)機(jī)需克服慣性,消耗額外能量。
影響因素:
開(kāi)關(guān)頻率:頻率越高,單位時(shí)間內(nèi)的開(kāi)關(guān)次數(shù)越多,損耗越大。
開(kāi)關(guān)速度:器件上升/下降時(shí)間越長(zhǎng),重疊時(shí)間越長(zhǎng),損耗越大。
示例:
50kHz開(kāi)關(guān)頻率下,單次開(kāi)關(guān)損耗為10μJ,則每秒損耗為
。
1.3 磁性元件損耗
原理:變壓器、電感等磁性元件在交變磁場(chǎng)中產(chǎn)生渦流損耗和磁滯損耗。
類(lèi)比:類(lèi)似鐵芯在磁場(chǎng)中反復(fù)磁化時(shí),分子摩擦產(chǎn)生熱量。
影響因素:
磁芯材料:鐵氧體損耗低于硅鋼片。
工作頻率:頻率越高,磁滯損耗和渦流損耗越大。
示例:
100kHz頻率下,鐵氧體磁芯的渦流損耗可能占總損耗的30%。
1.4 寄生參數(shù)損耗
原理:電路中的寄生電容、電感在高頻下產(chǎn)生諧振或振鈴,導(dǎo)致額外損耗。
類(lèi)比:類(lèi)似電路中的“暗流”在無(wú)形中消耗能量。
示例:
開(kāi)關(guān)管漏極寄生電容(如100pF)在高頻開(kāi)關(guān)時(shí),每次充放電損耗為
,頻率越高損耗越大。
1.5 控制電路損耗
原理:反饋控制電路(如PWM控制器、運(yùn)放)消耗靜態(tài)電流,產(chǎn)生固定損耗。
類(lèi)比:類(lèi)似電子設(shè)備的待機(jī)功耗。
示例:
PWM控制器靜態(tài)電流為5mA,在12V電源下產(chǎn)生
損耗。
2. 損耗的分類(lèi)與特性
損耗類(lèi)型 | 特點(diǎn) | 典型占比 |
---|---|---|
導(dǎo)體損耗 | 與電流平方成正比,低頻下主導(dǎo)。 | 30%~50% |
開(kāi)關(guān)損耗 | 與開(kāi)關(guān)頻率和電壓/電流重疊時(shí)間相關(guān),高頻下顯著。 | 20%~40% |
磁性元件損耗 | 與磁芯材料和頻率相關(guān),中高頻下明顯。 | 10%~30% |
寄生參數(shù)損耗 | 與寄生電容/電感和頻率相關(guān),高頻下不可忽略。 | 5%~15% |
控制電路損耗 | 固定損耗,與負(fù)載無(wú)關(guān)。 | 1%~5% |
3. 損耗的影響因素
3.1 設(shè)計(jì)參數(shù)
開(kāi)關(guān)頻率:頻率越高,開(kāi)關(guān)損耗和磁性元件損耗越大,但體積越小。
拓?fù)浣Y(jié)構(gòu):如Buck、Boost、LLC等拓?fù)涞膿p耗分布不同。
負(fù)載條件:輕載時(shí)控制電路損耗占比高,重載時(shí)導(dǎo)體和開(kāi)關(guān)損耗主導(dǎo)。
3.2 器件選擇
MOSFET vs. IGBT:MOSFET開(kāi)關(guān)速度快但導(dǎo)通電阻高,IGBT導(dǎo)通壓降低但開(kāi)關(guān)速度慢。
磁芯材料:鐵氧體適合高頻,硅鋼片適合低頻大功率。
3.3 工作條件
溫度:高溫導(dǎo)致電阻增大,損耗增加。
輸入電壓:輸入電壓越高,開(kāi)關(guān)損耗越大。
4. 損耗的優(yōu)化方法
4.1 器件級(jí)優(yōu)化
低導(dǎo)通電阻器件:選擇導(dǎo)通電阻( )低的MOSFET。
軟開(kāi)關(guān)技術(shù):采用零電壓開(kāi)關(guān)(ZVS)或零電流開(kāi)關(guān)(ZCS)減少開(kāi)關(guān)損耗。
同步整流:用MOSFET替代二極管整流,降低導(dǎo)通壓降。
4.2 電路級(jí)優(yōu)化
諧振拓?fù)?/span>:如LLC諧振變換器,利用諧振減少開(kāi)關(guān)損耗。
多相并聯(lián):分散電流,降低導(dǎo)體損耗。
自適應(yīng)頻率控制:根據(jù)負(fù)載調(diào)整開(kāi)關(guān)頻率,平衡效率與體積。
4.3 系統(tǒng)級(jí)優(yōu)化
熱管理:優(yōu)化散熱設(shè)計(jì)(如風(fēng)冷、液冷),降低器件溫度。
輕載效率提升:采用突發(fā)模式(Burst Mode)或跳頻技術(shù)減少輕載損耗。
5. 典型案例分析
案例1:手機(jī)充電器(AC-DC電源)
損耗分布:
初級(jí)側(cè)MOSFET開(kāi)關(guān)損耗:25%
變壓器銅損和鐵損:30%
次級(jí)側(cè)同步整流損耗:15%
控制電路損耗:5%
優(yōu)化措施:
采用GaN器件替代MOSFET,降低開(kāi)關(guān)損耗。
優(yōu)化變壓器繞組結(jié)構(gòu),減少銅損。
案例2:服務(wù)器電源(48V DC-DC)
損耗分布:
多相Buck電路的導(dǎo)體損耗:40%
開(kāi)關(guān)損耗:30%
磁性元件損耗:20%
優(yōu)化措施:
采用12相并聯(lián),降低每相電流,減少導(dǎo)體損耗。
使用低損耗鐵氧體磁芯。
6. 總結(jié)
電源內(nèi)部損耗的存在是電能轉(zhuǎn)換過(guò)程中不可避免的物理現(xiàn)象,其核心原因包括:
電阻性損耗:導(dǎo)體和半導(dǎo)體電阻導(dǎo)致焦耳熱。
開(kāi)關(guān)損耗:高頻開(kāi)關(guān)過(guò)程中的電壓/電流重疊。
磁性損耗:磁芯的渦流和磁滯效應(yīng)。
寄生參數(shù)損耗:高頻下的寄生效應(yīng)。
控制電路損耗:靜態(tài)功耗。
優(yōu)化方向:
器件選擇:低導(dǎo)通電阻、軟開(kāi)關(guān)器件。
拓?fù)湓O(shè)計(jì):諧振拓?fù)洹⒍嘞嗖⒙?lián)。
系統(tǒng)優(yōu)化:熱管理、輕載效率提升。
通過(guò)合理設(shè)計(jì)和器件選型,可顯著降低電源內(nèi)部損耗,提升效率。例如,現(xiàn)代手機(jī)充電器的效率可達(dá)90%以上,而服務(wù)器電源的效率可超過(guò)96%。
責(zé)任編輯:David
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